Descripción de los materiales de evaporación de siliciuro de hafnio
Elmaterial de evaporación de siliciuro de hafnio, suministrado por Stanford Advanced Materials, representa un notable material de evaporación de cerámica silicida con la fórmula química HfSi2. No se puede subestimar la importancia de los materiales de evaporación de HfSi2 de alta pureza en los procesos de deposición, ya que garantizan la deposición de películas de máxima calidad. Stanford Advanced Materials (SAM) está especializada en la producción de materiales de evaporación con niveles de pureza de hasta el 99,9995%, respaldados por estrictos procesos de aseguramiento de la calidad que garantizan la máxima fiabilidad del producto.
Especificación de los materiales de evaporación de siliciuro de hafnio
Especificación |
Descripción |
Tipo de material |
Silicato de hafnio (IV) |
Símbolo |
HfSi2 |
Aspecto/Color |
Cristal tetragonal |
Punto de fusión |
2.758 °C (4.996 °F; 3.031 K) |
Densidad |
7,0 g/cm³ |
Pureza |
99.5% |
Formas disponibles |
Polvo, gránulo, a medida |
Aplicación de los materiales de evaporación de siliciuro de hafnio
Los materiales de evaporación de siliciuro de hafnio tienen una amplia aplicación en procesos de deposición, que abarcan la deposición de semiconductores, la deposición química en fase vapor (CVD) y la deposición física en fase vapor (PVD). Su principal utilidad reside en el ámbito de la óptica, que abarca la protección contra el desgaste, los revestimientos decorativos y los avances en tecnologías de visualización.
Envasado de materiales de evaporación de siliciuro de hafnio
En Stanford Advanced Materials (SAM), damos prioridad a la identificación eficaz y al control de calidad de nuestros materiales de evaporación de siliciuro de hafnio. Estos materiales están meticulosamente etiquetados y etiquetados externamente, lo que refleja nuestro compromiso de evitar cualquier daño potencial durante el almacenamiento o el transporte.