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  • ST0515 Cátodos para sputtering de óxido de hafnio con óxido de itrio, HfO2/Y2O3

    • ST0515 Cátodos para sputtering de óxido de hafnio con óxido de itrio, HfO2/Y2O3

    Catálogo No. ST0515
    Fórmula química HfO2/Y2O3
    Pureza 99.9%, 99.99%, 99.999%
    Forma Discos, placas, blancos de columna, blancos escalonados, a medida

    Los cátodos para sputtering de óxido de hafnio con óxido de itrio de SAM están disponibles en varias formas, purezas, tamaños y precios. Estamos especializados en la producción de materiales de deposición física en fase vapor (PVD) de gran pureza con la mayor densidad posible y los tamaños de grano medio más pequeños posibles para su uso en aplicaciones de semiconductores, deposición química en fase vapor (CVD) y deposición física en fase vapor (PVD) para pantallas y óptica.

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