Descripción del Disco de Grafito MOCVD
El Disco de Grafito MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition ) es un componente de grafito de alta pureza utilizado en reactores MOCVD como susceptor o portador de obleas. El disco de grafito MOCVD se caracteriza por su resistencia a las altas temperaturas, a la oxidación, a la erosión, a la alta pureza, a las sales ácidas y alcalinas y a los reactivos orgánicos. El MOCVD es un proceso crítico en la industria de los semiconductores para depositar capas muy finas de material sobre sustratos, típicamente utilizados en la fabricación de LEDs, células solares y varios tipos de dispositivos semiconductores.
Especificaciones del disco de grafito MOCVD
Densidad
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g/cm3
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3.15-3.20
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Dureza Mohs
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-
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9.5
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Constante de red
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nm
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α 0.434
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Conductividad térmica
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w/m-k
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80
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Tasa de expansión térmica
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10-6℃-1
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4.7
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Aplicaciones del disco de grafito MOCVD
- Deposición de capas semiconductoras: Los discos de grafito se utilizan como sustratos o soportes de obleas en la deposición de diversas capas semiconductoras, como las utilizadas en LED, diodos láser y electrónica de potencia.
- Producción de células solares: En la fabricación de células fotovoltaicas, los discos de grafito MOCVD se utilizan para depositar películas finas que mejoran la eficiencia de las células solares.
- Fabricación de electrónica avanzada: Para dispositivos que requieren un control preciso de las propiedades de los materiales, como smartphones y tabletas, los discos de grafito MOCVD facilitan la deposición de materiales con características eléctricas, ópticas y estructurales específicas.
Embalaje del disco de grafito MOCVD
Nuestros Discos de Grafito MOCVD son cuidadosamente manejados durante su almacenaje y transportación para preservar la calidad de nuestro producto en su condición original.