VD0806 Materiales de evaporación de siliciuro de tántalo, TaSi2

Catálogo No.	VD0806
Material	Siliciuro de tántalo (TaSi2)
Pureza	99.5%
Forma	Polvo/ Granulado/ A medida

Stanford Advanced Materials (SAM) está especializada en la producción de materiales de evaporación de siliciuro de tántalo de alta pureza. Ofrecemos nuestros materiales de evaporación en forma de polvo y gránulos. También disponemos de formas personalizadas bajo pedido.

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CONSULTA

Descripción

Especificación

SDS

Descripción de los materiales de evaporación de siliciuro de tántalo

Los materiales de evaporación de alta pureza desempeñan un papel fundamental en los procesos de deposición para garantizar una película depositada de alta calidad. Stanford Advanced Materials (SAM) se especializa en la producción de materiales de evaporación de siliciuro de tántalo de hasta un 99,95% de pureza utilizando procesos de aseguramiento de la calidad para garantizar la fiabilidad del producto.

Especificación de los materiales de evaporación de siliciuro de tántalo

Nº CAS	12039-79-1
Peso molecular	237,12 g/mol
Punto de fusión	2200℃
Densidad	9,14 g/cm3
Resistividad	8,5 (ρ/μΩ.cm)
Clave InChI	MANYRMJQFFSZKJ-UHFFFAOYSA-N

Aplicación de los materiales de evaporación de siliciuro de tántalo

- Utilizado en procesos de deposición incluyendo deposición de semiconductores, deposición química de vapor (CVD) y deposición física de vapor (PVD)
- Utilizados en óptica, incluida la protección contra el desgaste, los revestimientos decorativos y las pantallas.

Embalaje de materiales de evaporación de siliciuro de tántalo

Nuestros materiales de evaporación de siliciuro de tántalo se manipulan cuidadosamente para evitar daños durante el almacenamiento y el transporte y para preservar la calidad de nuestros productos en su estado original.