Descripción de los materiales de evaporación de titanato de circonio y plomo
Stanford Advanced Materials (SAM) está especializada en la producción de materiales de evaporación de titanato de circonio y plomo de gran pureza y calidad para su uso en aplicaciones de semiconductores, deposición química de vapor (CVD) y deposición física de vapor (PVD) en pantallas y ópticas. La sinergia única entre nuestros equipos de ingeniería, fabricación y análisis nos ha permitido producir materiales de evaporación líderes en el sector.
Especificaciones de los materiales de evaporación de titanato de circonio y plomo
Tipo de material |
Titanato de plomo y circonio (PbZr0,52Ti0,48O3) |
Pureza |
99,9% y superior |
Forma |
Materiales de evaporación |
Punto de fusión |
Aproximadamente 1.250°C |
Densidad |
7,5 g/cm³ |
Forma |
Polvo/Gránulos/Fabricado a medida |
Aplicación de los materiales de evaporación de titanato de circonio y plomo
Los materiales de evaporación de titanato de circonio y plomo se utilizan en las siguientes aplicaciones:
- Usados en procesos de deposición incluyendo deposición de semiconductores, deposición química de vapor (CVD), y deposición física de vapor (PVD).
- Utilizados para la óptica, incluida la protección contra el desgaste, los revestimientos decorativos y las pantallas.
Embalaje de materiales de evaporación de titanato de circonio y plomo
Nuestros materiales de evaporación de titanato de circonio y plomo se manipulan cuidadosamente para evitar daños durante el almacenamiento y el transporte y para preservar la calidad de nuestros productos en su estado original.