Descripción de los materiales de evaporación de manganeso-níquel (Mn/Ni)
Stanford Advanced Materials (SAM) está especializada en la producción de materiales de evaporación de gran pureza y calidad para su uso en aplicaciones de semiconductores, deposición química en fase vapor (CVD) y deposición física en fase vapor (PVD) para pantallas y óptica. La sinergia única entre nuestros equipos de ingeniería, fabricación y análisis nos ha permitido producir materiales de evaporación líderes en el sector.
Nuestros materiales de evaporación de Mn/Ni están diseñados con precisión y ofrecen una pureza, consistencia y fiabilidad excepcionales para aplicaciones en electrónica, óptica y otros campos. Explore el potencial de estos materiales para sus necesidades de deposición de película fina.
Especificaciones de los materiales de evaporación demanganeso-níquel :
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Materiales
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Manganeso Níquel
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Densidad
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7,2-8,9 g/cm3
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Punto de fusión
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1246-1455℃
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Pureza
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99.9%
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Manganeso Níquel Materiales de Evaporación Características:
Alta pureza: Nuestros materiales de evaporación de Mn/Ni se elaboran centrándose en la pureza, minimizando las impurezas para garantizar películas delgadas de la más alta calidad.
Composición exacta: Las proporciones de composición de manganeso (Mn) y níquel (Ni) se controlan meticulosamente para satisfacer sus requisitos precisos de deposición, garantizando resultados fiables.
Espesor de película uniforme: Consiga un excelente control sobre el espesor de la película fina, asegurando la uniformidad en grandes áreas de sustrato, lo que es crítico para muchas aplicaciones.
Excelente estabilidad térmica: Los materiales de Mn/Ni presentan una excelente estabilidad térmica durante la deposición, lo que evita la expulsión de partículas y garantiza una formación de película lisa y sin defectos.
Aplicaciones versátiles: Adecuado para una amplia gama de aplicaciones, como magnetismo, óptica, electrónica e ingeniería de superficies.
Soluciones personalizadas: Ofrecemos opciones de personalización para adaptar los materiales de evaporación de Mn/Ni a sus especificaciones y necesidades de aplicación únicas.
Aplicaciones de los materiales de evaporación de manganeso-níquel:
Nuestros materiales de evaporación de manganeso-níquel se emplean en diversas industrias de alta tecnología, entre las que se incluyen:
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Dispositivos magnéticos: Utilizados en la producción de películas finas magnéticas para sensores, almacenamiento de datos y revestimientos magnéticos.
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Fabricación de semiconductores: Ideales para procesos de fabricación de semiconductores, incluida la deposición de películas finas para circuitos integrados.
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Recubrimientos ópticos: Utilizados en la creación de revestimientos ópticos para lentes, espejos y filtros en aplicaciones de óptica y fotónica.
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Ingeniería de superficies: Se aplica para modificar las propiedades superficiales, mejorar la resistencia al desgaste y reducir la fricción en diversas aplicaciones de ingeniería.
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Investigación y desarrollo: Esencial para proyectos de I+D relacionados con la deposición de películas finas, estudios de ciencia de materiales e investigación académica.
Embalaje demateriales de evaporación de man ganeso-níquel
Nuestros Materiales de Evaporación de Manganeso Níquel (Mn/Ni ) son claramente etiquetados externamente para asegurar una eficiente identificación y control de calidad. Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño causado durante el almacenamiento o el transporte.
¿Por qué elegir nuestros materiales de evaporación de níquel manganeso?
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Garantía de calidad: Nuestros materiales de evaporación de Mn/Ni son sometidos a rigurosos procesos de control de calidad para cumplir y superar los estándares de la industria.
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Experiencia técnica: Nuestro equipo de expertos cuenta con amplios conocimientos en tecnología de deposición de película fina y ofrece soporte técnico dedicado y orientación adaptada a sus aplicaciones específicas.
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Soluciones personalizadas: Entendemos que una talla no sirve para todos. Proporcionamos soluciones personalizadas de materiales de evaporación de Mn/Ni para satisfacer sus requisitos exclusivos de deposición de película fina, garantizando precisión y rendimiento.
