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IF5732 (Descatalogado) 1200C Horno rotativo CVD asistido por plasma microondas GSL-1200R-MWPE

Catálogo No. IF5732
Número de artículo GSL-1200R-MWPE
Temperatura de trabajo ≤1100℃ continua
Tubo de cuarzo estándar 25 mm DE x 21 mm DI x 500 mm L

Descatalogado

Elhorno rotativo CVD 1200C asistido por plasma de microondas es un horno rotativo de deposición química en fase vapor (MPCVD) asistido por microondas, que cuenta con un generador de microondas de 2,45 GHz emparejado con un tubo de procesamiento rotativo de 2 pulgadas que funciona a 0-5 rpm. Stanford Advanced Materials (SAM) tiene una gran experiencia en la fabricación y suministro de hornos rotativos de alta calidad.

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