IF5686 (Descatalogado) Horno vertical 1100C KSL-1100X-L-VT

Horno vertical 1100C KSL-1100X-L-VT Descripción

Elhorno vertical 1100C es un horno vertical de vacío con una cámara tubular de cuarzo de Ø200×Ø190×H425 mm, con bridas y válvulas de acero inoxidable. Este horno está equipado con una turbobomba Torr que le permite alcanzar un nivel de vacío de 10^-5 Torr. Diseñado para la calcinación o el recocido de obleas semiconductoras (de hasta 8 pulgadas de diámetro), funciona en vacío o en diversas atmósferas de gas, alcanzando temperaturas de hasta 1100°C.

Especificaciones del horno vertical 1100C KSL-1100X-L-VT

Horno Vertical 1100C KSL-1100X-L-VT Aplicaciones

• Fabricación de semiconductores: Utilizado para la fabricación de dispositivos semiconductores como obleas de silicio, MEMS (sistemas microelectromecánicos) y células fotovoltaicas. Los hornos verticales se emplean para procesos como la oxidación, la difusión, el LPCVD (depósito químico en fase vapor a baja presión) y el recocido.
• Deposición de películas finas: Se utiliza para la deposición de películas finas sobre sustratos mediante técnicas como CVD (deposición química en fase vapor), PVD (deposición física en fase vapor) y ALD (deposición de capas atómicas). Los hornos verticales proporcionan un entorno controlado para controlar con precisión el grosor y la composición de las películas.
• Producción de células solares: Se aplica en la fabricación de células solares y módulos fotovoltaicos. Los hornos verticales se utilizan para procesos como la difusión, la deposición de revestimientos antirreflectantes y la metalización para mejorar la eficiencia y el rendimiento de las células solares.

Horno vertical 1100C KSL-1100X-L-VT Embalaje

Nuestro Horno Vertical 1100C KSL-1100X-L-VT se manipula cuidadosamente durante el almacenamiento y el transporte para preservar la calidad de nuestro producto en su estado original.